한외여과(UF) 막 오염 메커니즘

• 발행기관: 개인저작물
• 저자명: 김오식
• 간행물 정보: 『개인저작물 - 공학』제15권 4호, 25~33쪽, 전체 9쪽
• 주제분류: 공학 > 개인저작물
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2015.null.null

국문 초록

지금까지 한외여과막의 화학처리와 오염제거 기법은 몇 가지가 개발되어 막(膜)의 성능(性能)을 재생(再生)하는데 널리 이용되고 있다. 한외여과막의 오염물질을 제거하는데 이용되는 화학처리제와 오염제거제도 여러 가지 개발되어 있다. 이와 같은 화학처리제와 오염제거제의 적정성 여부는 오염물의 성상(性狀)과 특성, 화학처리제와 오염제거제의 종류와 농도, 온도, pH, 처리대상 용액과의 접촉시간(接觸時間), 화학처리와 오염제거 작업의 시퀜스(sequence), 막의 횡단유속/cross-velocity 및 압력과 같은 운전조건 등의 인자에 달려있다고 할 수 있다.

목차

목차

초록

1. 막분리와 한외여과막 분리

2. 한외여과(UF) 막분리 기술

3. 물리화학적 UF막 정화 메커니즘

4. 미생물학적 UF 막정화 메커니즘

5. 수리학적 막정화 메커니즘

6. UF 막 특성치와 화학처리작용 및 오염제거작용

7. 출처

키워드

한외여과(UF)막 막열화 낙농유 막정화 수리학적 막세정 막모듈 화학처리