- 영문명
- Electromigration Behavior in the 63Sn-37Pb Solder Strip
- 발행기관
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 저자명
- 임승현 최재훈 오태성
- 간행물 정보
- 『마이크로전자 및 패키징학회지』제11권 제2호, 53~58쪽, 전체 6쪽
- 주제분류
- 공학 > 산업공학
- 파일형태
- 발행일자
- 2004.06.30

국문 초록
63Sn-37Pb 공정솔더의 electromigration 현상을 용이하게 관찰하기 위해 63Sn-37Pb 공정솔 더를 증착하여 스트립 형태의 시편을 제작 후 electromigration 테스트를 실시하였다. 80~150℃의 온도 및 1×10⁴~1×10⁵A/cm²의 전류밀도에서 electromigration 테스트시 스트립 형상의 63Sn-37Pb 솔더 합금에서 hillock과 void의 발생이 관찰되었으며, 온도와 전류밀도가 높아질수록 void의 형성이 빨라져서 평균파괴시간이 단축되었다. 평균파괴시간을 이용하여 Black의 식으로부터 구한 63Sn-37Pb 솔더 스트립의 electromigration에 대한 활성화 에너지는 0.16~0.5eV이었다.
영문 초록
To facilitate the observation of the electromigration of 63Sn-37Pb eutectic solder, strip-type samples were fabricated by solder evaporation. The electromigration test for the 63Sn-37Pb solder strip was conducted at temperatures of 80~150℃ and the current densities of 1×10⁴~1×10⁵A/cm². With increasing temperature and the current density, mean-time-to-failure(MTTF) decreased due to the formation of hillock and void in the solder strip. The activation energy for the electromigration in the 63Sn-37Pb solder strip was analyzed as 0.16~0.5eV using Black's equation.
목차
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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