Duration of Patents and R&D Duplication

• 발행기관: 한국재산법학회
• 저자명: ByungWoo Kim
• 간행물 정보: 『한국재산법학회 학술대회 자료집』2010년 춘계학술대회 자료집, 84~92쪽, 전체 9쪽
• 주제분류: 법학 > 법학
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2010.03.30

국문 초록

“발등찍는 효과”는 연구개발 중복효과에 따라 발생한다. 이 문제는 특허 지속기간을 줄임으로써 해결할 수 있다. 특허기간의 감축은 지식공개를 촉진시키고 중복효과를 감소시킨다. 실증분석 결과는 독일, 프랑스 등 유럽국가들이 중복효과가 작은 것으로 나타났다. 특히, 독일의 경우, 3년 기간의 petty 특허와 특허갱신제도에서 기인하는 것으로 보인다. 한편, 갱신제도가 없는 한국에서는 중복효과가 상대적으로 낮은 것으로 나타났다. 마지막으로, 특허범위를 줄이는 정책은 연구개발을 촉진시키지만 과다(중복) 연구개발을 가져올 수 있음을 유의할 필요가 있다.

영문 초록

“Stepping on toes” effects are prevalent due to negative duplication externalities. These problems may be avoided by shortening patent duration. Short duration of patent law increases knowledge dissemination, and reduces duplication of R&D efforts. Empirical tests show that European countries like Germany and France have less (negative) duplicative externalities than other countries. This may be due to two‐tired patent system consisting of petty patents for three years and patent renewal system. In special, Korea that has no renewal system has relatively little duplication effect. Finally, it is worth to note that narrowing the scope of patent law has the effect of promoting creativity, but has the weakness of causing over‐R&D to occur.

목차

1. Introduction

2. Patent Law system

3. Implication and Summary

키워드

R&D 중복 특허중복 특허갱신 R&D인센티브 duplication of R&D patent duration patent renewal system R&D incentives