반도체 제조 공정 장비의 이해

고속비행오리406 지음

작가와 2025년 01월 16일 출간

작품소개

책소개

오늘날 반도체 산업은 4차 산업혁명의 핵심 기반 기술로서, 인공지능, 빅데이터, 사물인터넷 등 미래 기술 발전의 중추적인 역할을 담당하고 있습니다. 이러한 반도체 산업의 발전은 고도화된 제조 공정 기술과 이를 뒷받침하는 첨단 장비의 개발 및 유지보수 기술에 크게 의존하고 있습니다.
독자 여러분이 본 도서를 통해 반도체 제조 공정 장비의 원리와 유지보수 방법을 깊이 있게 이해하고, 실제 현장에서 유용하게 활용할 수 있기를 바랍니다. 감사합니다.

목차

1장 반도체 포토공정 장비 제작 유지보수
■ 감광액, 노광, 현상 | 5p
■ 포토장비 유지 보수 | 14p

제2장 반도체 식각공정 장비 제작 유지보수
■ 습식식각, 건식식각 | 21p
■ 식각장비 유지 보수 | 27p

제3장 반도체 박막 장비 제작 유지보수
■ CVD공정 및 정의 | 30p
■ 스퍼터링 원리 및 이해 | 39p

제4장 반도체 확산 장비 제작 유지보수
■ 확산공정 원리 | 42p
■ 열산화공정 이해 | 49p

제5장 반도체 장비 부품 유지보수
■ MFC | 58p
■ IGS, VCR | 66p

제6장 반도체 이온 장비 제작 유지보수
■ 이온 주입 원리 | 70p
■ 열처리 원리 및 장치 이해 | 76p

제7장 반도체 세정 장비 제작 유지보수
■ 세정공정 조건 및 방법 | 85p
■ RCA세정 이해 | 89p

제8장 화학적 기계적 연마(CMP) 장비 제작 유지보수
■ CMP장비 구성 | 96p
■ CMP모듈 구성 | 99p

제9장 반도체 테스트 공정 장비 제작 유지보수
■ 프로브 스테이션 | 110p
■ 핸들러 | 115p

제10장 반도체 진공 플라즈마 장비 제작 유지보수
■ 플라즈마 기초 | 123p
■ 플라즈마 구성 이해 | 128p

책 속으로

본 도서는 반도체 제조 공정에서 사용되는 주요 장비들의 원리와 구조, 그리고 유지보수 방법을 상세히 설명함으로써, 반도체 산업의 최전선에서 활약하는 엔지니어와 연구자들에게 실질적인 도움을 주기 위해 기획되었습니다.

제1장에서는 반도체 제조의 첫 단계인 포토공정에서 사용되는 장비들의 제작 및 유지보수 방법을 다룹니다. 감광액 도포, 노광, 현상 등의 주요 공정과 이를 수행하는 장비들의 작동 원리와 유지보수 포인트를 상세히 설명합니다.

제2장에서는 식각공정 장비를 다루며, 습식식각과 건식식각의 원리와 장비 유지보수 방법을 소개합니다. 식각 공정은 반도체 소자의 미세 구조를 형성하는 데 매우 중요한 역할을 하므로, 장비의 정확한 이해와 관리가 필수적입니다.

제3장에서는 박막 증착 공정 장비를 다루며, CVD 공정과 스퍼터링 공정의 원리와 장비 유지보수 방법을 설명합니다. 박막 증착은 반도체 소자의 전기적 특성을 결정짓는 중요한 공정이므로, 장비의 성능과 신뢰성이 매우 중요합니다.

제4장에서는 확산 공정 장비를 다루며, 열산화 공정의 원리와 장비 유지보수 방법을 소개합니다. 확산 공정은 반도체 소자의 도핑에 사용되며, 산화 공정은 반도체 소자의 절연막을 형성하는 데 사용됩니다.

제5장에서는 반도체 장비의 핵심 부품인 MFC와 IGS, VCR 등의 부품 유지보수 방법을 다룹니다. 이러한 부품들은 장비의 성능과 안전성을 좌우하므로, 정기적인 점검과 유지보수가 필요합니다.

제6장에서는 이온 주입 장비를 다루며, 이온 주입의 원리와 열처리 장비의 이해를 돕습니다. 이온 주입은 반도체 소자의 전기적 특성을 개선하는 데 사용되며, 열처리는 이온 주입 후 소자의 안정성을 높이는 데 사용됩니다.

제7장에서는 세정 공정 장비를 다루며, 세정 공정의 조건과 방법, 그리고 RCA 세정의 이해를 돕습니다. 세정 공정은 반도체 소자의 품질을 유지하는 데 매우 중요한 역할을 합니다.

제8장에서는 CMP 장비를 다루며, CMP 장비의 구성과 모듈 구성을 설명합니다. CMP 공정은 반도체 소자의 표면을 평탄하게 만드는 데 사용됩니다.

제9장에서는 테스트 공정 장비를 다루며, 프로브 스테이션과 핸들러의 이해를 돕습니다. 테스트 공정은 반도체 소자의 최종 품질을 검증하는 중요한 공정입니다.

마지막으로 제10장에서는 진공 플라즈마 장비를 다루며, 플라즈마의 기초와 구성 이해를 돕습니다. 진공 플라즈마는 반도체 제조 공정에서 다양한 용도로 사용됩니다.

작가정보

저자(글) 고속비행오리406

- 작가 주요 경력 -

★ 제조사 근무 경력 17년(SCM, 생산, 품질관리, 인사 등 업무 담당)

★ 직업능력개발훈련교사