반도체 공정의 핵심 박막 및 확산 장비 기초 가이드

고속비행오리406 지음

작가와 2025년 03월 01일 출간

작품소개

책소개

현대 사회에서 반도체는 우리 일상생활의 모든 면에 깊숙이 자리 잡고 있습니다. 스마트폰, 컴퓨터, 자동차, 의료 기기 등 거의 모든 전자 제품에 반도체가 사용되고 있으며, 그 중요성은 점점 더 커지고 있습니다. 이러한 반도체를 제조하는 과정에서 박막 및 확산 장비는 핵심적인 역할을 담당하고 있습니다.
이 책이 반도체 산업에 종사하는 분들과 반도체에 관심 있는 학생들에게 도움이 되기를 바랍니다.

목차

제1장 박막 장비의 개요
■ 박막 장비의 종류와 특성 | 6p
■ 박막 장비의 구조 | 16p

제2장 확산 장비의 종류와 특성, 구조
■ 확산 장비의 종류와 특성 | 21p
■ 확산 장비의 구조 | 29p

제3장 이온주입 장비의 이해
■ 이온주입 장비의 이해 | 34p

제4장 스퍼터 장비의 이해
■ 스퍼터 장비의 이해 | 40p

제5장 이바포레이터 장비의 이해
■ 이바포레이터 장비의 이해 | 47p

제6장 CDV장비의 이해
■ CDV장비의 이해 | 53p

제7장 ALD장비의 이해
■ ALD장비의 이해 | 60p

제8장 MOCVD장비의 이해
■ MOCVD장비의 이해 | 68p

제9장 박막 장비의 유지 개선
■ 박막 장비의 PM | 76p
■ 박막 장비의 사후관리 | 81p

제10장 박막 장비의 부품
■ 박막 장비의 진공부품 | 85p
■ 박막 장비의 반송부품 | 89p

제11장 확산 장비의 유지 개선
■ 확산 장비의 PM | 94p
■ 확산 장비의 사후 관리 | 98p

제12장 확산 장비의 부품
■ 확산 장비의 부품 | 102p
■ 확산 장비의 반응로 | 105p

제13장 이온주입 장비의 유지 개선
■ 이온주입 장비의 PM | 109p
■ 이온주입 장비의 사후관리 | 111p

제14장 이온주입 장비의 구성요소
■ 이온주입 장비의 구성 요소 | 115p
■ 이온주입 장비의 운영 | 118p

책 속으로

본 책은 반도체 제조 공정에서 필수적인 박막 및 확산 장비에 대한 기초 지식과 활용 방법을 제공하기 위해 쓰여졌습니다. 총 14개의 장으로 구성된 이 책은 다음과 같은 내용을 담고 있습니다.

제1장부터 제4장까지는 박막 장비의 종류와 특성, 구조에 대해 설명합니다. 박막은 반도체 소자의 전기적 특성을 결정하는 중요한 요소 중 하나이므로, 이를 이해하는 것은 반도체 제조 공정을 이해하는 데 필수적입니다.

제5장부터 제8장까지는 확산 장비의 종류와 특성, 구조에 대해 설명합니다. 확산은 반도체 소자의 불순물 농도를 조절하는 데 사용되는 기술로, 이를 이해하는 것 역시 반도체 제조 공정을 이해하는 데 중요합니다.

제9장부터 제11장까지는 박막 장비의 유지보수와 개선 방법에 대해 설명합니다. 장비의 유지보수와 개선은 생산성을 높이고 불량률을 줄이는 데 중요한 역할을 합니다.

제12장부터 제14장까지는 확산 장비의 유지보수와 개선 방법, 그리고 이온 주입 장비의 구성요소와 운영 방법에 대해 설명합니다. 이는 반도체 제조 공정의 효율성과 품질을 높이는 데 큰 도움이 됩니다.

이 책을 통해 독자들은 반도체 제조 공정의 핵심인 박막 및 확산 장비에 대한 기초 지식과 활용 방법을 습득할 수 있을 것입니다. 또한, 장비의 유지보수와 개선 방법을 배워 생산성을 높이고 불량률을 줄일 수 있을 것입니다.

작가정보

저자(글) 고속비행오리406

- 작가 주요 경력 -

★ 제조사 근무 경력 17년(SCM, 생산, 품질관리, 인사 등 업무 담당)

★ 직업능력개발훈련교사